4月16日消息，EUV光刻机是5nm以下工艺绕不过去的核心设备，目前全球只有ASML公司能生产，这是集合了美国、欧洲及亚洲等多个国家的技术联合研发出来的。
由于众所周知的原因，还有个国家需要自研EUV光刻机，但这个挑战难度极大，光刻机早被很多人吹成了什么工业皇冠上的明珠了，而EUV又比常规的DUV光刻机难度再高一两个级别，售价通常在2-4亿美元。
对于有国家想自研EUV光刻机，韩国媒体援引韩国汉阳大学材料科学教授安振浩的表态称不看好这个努力，认为10年内开发出能够大规模生产芯片的EUV光刻机是不太可能的。
安振浩最近获得了韩国的工程院大奖，是科班出身的科技领域资深教授，但他对其他国家2028年拿出可量产交付的EUV光刻机表示怀疑。
他还表示即便是尼康这样的行业巨头，长期掌握着光刻技术，也从来做到过EUV技术突破，这不是能靠蛮力就能进入的技术。
他还提到就算是ASML公司，也是开发了数十年的EUV技术，还要依赖紧密协调的生态系统，包括蔡司的精密光学和专用光源技术。
PS：本以为这个教授有什么高深见解，原来在这种话题上也如喷子一样的逻辑，用尼康也没搞成EUV来当证据，同时又拿EUV需要什么全球协同之类的东西来当例子，这些话本身没啥错，但并没有什么逻辑，尼康搞不定不等于别人也搞不定，某国自己的研究机构之多、合作之深并不亚于什么EUV多国联合。
这个教授显然对某个国家的EUV研究机构和进度没有什么了解，接受韩国媒体采访也就是泛泛而谈，本以为是资深工程教授，面对媒体必有高论，没想到竟说出如此粗鄙之语。
